2", 3" bolacha de antimonida de índio

2", 3" bolacha de antimonida de índio

Devido ao seu gap extremamente estreito, pequena massa efetiva de elétrons e alta mobilidade de elétrons, o antimoneto de índio (InSb), um tipo de material de cristal semicondutor III-V, encontrou uso significativo em componentes magnetorresistivos, dispositivos Hall e outras tecnologias industriais.
Enviar inquérito
InSb

 

Devido ao seu gap extremamente estreito, pequena massa efetiva de elétrons e alta mobilidade de elétrons, o antimoneto de índio (InSb), um tipo de material de cristal semicondutor III-V, encontrou uso significativo em componentes magnetorresistivos, dispositivos Hall e outras tecnologias industriais. O material preferido para detectores infravermelhos de onda média é o InSb devido à sua eficiência quântica extremamente alta e taxa de resposta na faixa de 3 a 5 μm.

 

ESPECIFICAÇÕES Gerais

Tamanho

2"

3"

Orientação

A ou B ± 0,1 grau, (100) também pode fornecer qualquer ângulo diferente de ori. (100)

Diâmetro (mm)

50.5±0.5

76.2±0.4

Ângulo plano

2 apartamentos a 120 graus

2 apartamentos a 120 graus

Tolerância

±0,1 grau

±0,1 grau

DE comprimento (mm)

16±2

22±2

SE Comprimento (mm)

8±1

11±1

Espessura (μm)

625±25

800 ou 900±25

O tamanho pode ser personalizadoEd.

Condutividade e Dopante

Dopante

Tipo de condutividade

CC

cm-3(77K)

Mobilidade

cm²V-1S-1

Densidade de Luxação

cm-2

Telúrio (Te)

tipo n

4x1014~1.4X1015

Maior ou igual a 1x105

2",3" Menor ou igual a 50

Métricas elétricas mais rigorosas podem ser fornecidas mediante solicitação.

PLANEJAMENTO

Superfície

 

2"

3"

Polido/Gravado

TTV(μm)

<10

<10

Arco (μm)

<10

<10

Urdidura (μm)

<15

<15

Polido/Polido

TTV(μm)

<5

<5

Arco (μm)

<5

<5

Urdidura (μm)

<8

<8

 

Tag: 2", 3" wafer de antimoneto de índio, China 2", 3" fabricantes de wafer de antimoneto de índio, fornecedores, fábrica, silício gravado para dispositivos miniaturizados, Computação semicondutora composta, Wafer para ambientes inertes, salmão de safira para aplicações de litografia, wafer para ambientes perigosos, wafer para eletrônica aeroespacial